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沈陽東創貴金屬材料有限公司
主營：貴金屬材料
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| 先生： |
金屬靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標材料。有金屬類、合金類、氧化物類等等。
簡單說的話，例如：蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜......鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
應用于顯示屏的阻擋層或調色層，純銀板材加工，筆記本電腦的裝飾層、電池的封裝等.
濺射技術：濺射是制備薄膜材料的主要技術之一，純銀板材哪家好，它利用離子源產生的離子，在真空中經過加速聚集，純銀板材報價，而形成高速度能的離子束流，轟擊固體表面，離子和固體表面原子發生動能交換，使固體表面的原子離開固體并沉積在基底表面，純銀板材，被轟擊的固體是制備濺射法沉積薄膜的原材料，稱為濺射靶材。各種類型的濺射薄膜材料無論在半導體集成電路、太陽能光伏、記錄介質、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛的應用。
在所有應用產業中，半導體產業對靶材濺射薄膜的品質要求是苛刻的。如今12英寸（300衄口）的硅晶片已制造出來．而互連線的寬度卻在減小。硅片制造商對靶材的要求是大尺寸、高純度、低偏析和細晶粒，這就要求所制造的靶材具有更好的微觀結構。靶材的結晶粒子直徑和均勻性已被認為是影響薄膜沉積率的關鍵因素。另外，薄膜的純度與靶材的純度關系極大，過99.995%（4N5）純度的銅靶，或許能夠滿足半導體廠商0.35pm工藝的需求，但是卻無法滿足如今0.25um的工藝要求。
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第9年
