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日照微弧技術有限公司
主營：微弧氧化,微弧氧化技術,微弧氧化電源,微弧氧化廠家
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微弧氧化工藝的整流電源特點：
操作方式:本控遠控操作模式可選擇;
輸出控制方式:直流、單極脈沖或雙極脈沖輸出控制模式可選擇
恒流恒壓、恒功率三種控制模式可選擇
軟啟動時間:軟啟動工作時間可在0-2005范圍內整定
整流方式:IGBT逆變軟開關整流，PWM脈沖步調制IGBT斬波
脈沖步調頻率范圍:1000-8000Hz;
人機操作界面:PLC彩色觸摸屏
主控制器：微弧氧化電源DSP微機數字觸發控制，PWM脈寬調節控制，脈沖移相分辨率≤1μ。
微弧氧化技術優勢
1、采用堿性電解液，對環境污染小。
2、工藝流程簡單，鎂合金微弧氧化表面要求，前處理工序少，適于大規模自動化生產。
3、允許溫度變化范圍寬，電解液允許的溫度范圍一般為10-70℃。
4、處理能力強。工件的形狀可較復雜，鎂合金微弧氧化，且可處理部分內表面，對異形零件、孔洞、焊縫的可加工能力遠遠高于其他表面陶瓷化工藝。且對工件的修補和重復加工能力投強。
5、電源模式一般采用交流或脈沖方式，這種方式具有較高能量，且生成的陶瓷膜性能比直流電源的高。
微弧氧化膜層的性能能夠達到何種程度？
一般來講，微弧氧化膜層是瞬間高溫下生成的內部致密的陶瓷層，膜層均具有良好的膜基結合力、硬度、耐磨耐腐蝕特性、高的絕緣性及耐高溫氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工藝下制備的膜層性能也有差異。如，一般情況下，鋁表面制備的膜層比鎂合金表面制備的膜層具有更高的硬度和耐磨性，因為從生成物來看，氧化鋁硬度及耐磨性均高于氧化鎂，鎂合金微弧氧化著色，鋁表面氧化膜硬度高可以達到HV3000。但是通常單純考慮這種極限性能并不可取，如單純提高膜層的硬度，可能需提高膜層厚度，降低膜基結合力，對膜層整體性能不利。
因此，一般很少單獨強調某種性能。只是如果有特殊要求，可以提出，整體加以調制，在滿足特殊需求的基礎上使膜層整體具有良好性能。如，微弧氧化 鎂合金加工，某鎂合金需要耐蝕，可以根據需求對膜層厚度、溶液成分等進行調制，滿足耐蝕400小時、600小時等特殊需求。
溫馨提示：以上是關于鎂合金微弧氧化表面要求-日照微弧技術-鎂合金微弧氧化的詳細介紹，產品由日照微弧技術有限公司為您提供，如果您對日照微弧技術有限公司產品信息感興趣可以聯系供應商或者讓供應商主動聯系您 ，您也可以查看更多與行業專用設備相關的產品！
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第7年
