在儲存技術方面,高密度、大容量硬盤的發展,需要大量的巨磁阻薄膜材料,CoF~Cu多層復合膜是如今應用廣泛的巨磁阻薄膜結構。磁光盤需要的TbFeCo合金靶材還在進一步發展,用它制造的磁光盤具有存儲容量大,壽命長,可反復無接觸擦寫的特點。如今開發出來的磁光盤,具有TbFeCo/Ta和TbFeCo/Al的層復合膜結構,TbFeCo/AI結構的Kerr旋轉角達到58,而TbFeCofFa則可以接近0.8。經過研究發現,貴金屬靶材加工,低磁導率的靶材高交流局部放電電壓l抗電強度。
平面顯示器(FPD)這些年來大幅沖擊以陰極射線管(CRT)為主的電腦顯示器及電視機市場,亦將帶動ITO靶材的技術與市場需求。如今的iTO靶材有兩種.一種是采用納米狀態的氧化銦混合后燒結,一種是采用銦錫合金靶材。銦錫臺金靶材可以采用直流反應濺射制造ITO薄膜,但是靶表面會氧化而影響濺射率,并且不易得到大尺寸的臺金靶材。如今一般采取方法生產ITO靶材,利用L}IRF反應濺射鍍膜.它具有沉積速度快.且能控制膜厚,電導率高,薄膜的一致性好,貴金屬靶材技術,與基板的附著力強等優點。
加工工業里鉬用得更廣泛。高溫下使用的模具受熱、機械交變應力作用導致材料疲勞出現裂紋。而利用熱膨脹系數小,導熱強、高溫強度好的鉬或鉬基合金,河北貴金屬靶材,模具壽命大幅度延長。壓鑄手表殼等精巧零件時,壽命可達5000次,一般為3000次,軸承生產中鎢板,鉬板,鎢棒,鉬棒,鎢管,貴金屬靶材多少錢,鉬管,鎢坩堝,鉬坩堝采用鉬合金模具比原高速鋼、軸承鋼模具壽命提高15倍。
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