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熱壓法：ITO靶材的熱壓制作過程是在石墨或氧化鋁制的模具內(nèi)充填入適當(dāng)粉末以后，以 100kgf/cm 2～1000kgf/cm 2的壓力單軸向加壓，同時以1000℃～1600℃進(jìn)行燒結(jié)。熱壓工藝制作過程所需的成型壓力較小，燒結(jié)溫度較低，燒結(jié)時間較短。但熱壓法生產(chǎn)的ITO靶材由于缺氧率高，氧含量分布不均勻，從而影響了生產(chǎn)ITO薄膜的均勻性，且不能生產(chǎn)大尺寸的靶。
人類社會的存在，科學(xué)技術(shù)的進(jìn)步和發(fā)展，已成為21世紀(jì)首要的戰(zhàn)略儲備物資，金圓柱靶廠，且與各國的政治經(jīng)濟(jì)和社會發(fā)展有著息息相關(guān)的緊密聯(lián)系，在已知的傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)和應(yīng)用領(lǐng)域中，高純材料、合金、各種深加工的制品（半成品）及化學(xué)制品，哪里有金圓柱靶，已被廣泛應(yīng)用到冶金鋼鐵，石油化工，有機化工，化工，電子電器，汽車制造，哪家有金圓柱靶，光學(xué)玻璃，玻璃纖維。
但是靶材制作困難，這是因為氧化銦不容易燒結(jié)在一起。一般采用ZrO2、Bi2O3、CeO等作為燒結(jié)添加劑，宿州金圓柱靶，能夠獲得密度為理論值的93%~98%的靶材，這種方式形成的ITO薄膜的性能與添加劑的關(guān)系極大。日本的科學(xué)家采用Bizo作為添加劑，Bi2O3在820Cr熔化，在l500℃的燒結(jié)溫度超出部分已經(jīng)揮發(fā)，這樣能夠在液相燒結(jié)條件下得到比較純的ITO靶材。而且所需要的氧化物原料也不一定是納米顆粒，這樣可以簡化前期的工序。
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第9年
