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真空蒸鍍原理將被鍍薄膜基材（筒狀〕裝在真空蒸鍍機中，用真空泵抽真空，使鍍膜中的真空度達到1.3×10－2～1.3×10-3Pa，加熱坩鍋使高純度的鋁絲在1200℃～1400℃的溫度下溶化并蒸發成氣態鋁。氣態鋁微粒在移動的薄膜基材表面沉積、經冷卻還原即形成一層連續而光亮的金屬鋁層。通過控制金屬鋁的蒸發速度、薄膜基材的移動速度以及鍍膜室的真空度等來控制鍍鋁層的厚度，一般鍍鋁層厚度在25～500nm，鍍鋁薄膜的寬度為800mm～2000mm。
真空鍍鋁膜的生產工藝流程
真空鍍鋁膜的生產工藝流程為：基材放卷→抽真空→加熱蒸發舟→送鋁絲→蒸鍍→冷卻→測厚→展平→收卷；其真空鍍鋁方式有轉移法和直接蒸鍍法兩種。
（1） 轉移法是借助載體膜將金屬鋁層轉移到基材表面而形成真空鍍鋁膜的一種工藝。轉移法是在直接蒸鍍法基礎上發展起來的新工藝，它克服了直接蒸鍍法對基材要求的局限性，彩色鍍鋁膜地址，尤其適合于在各種紙及紙板上進行鍍鋁，也可用于塑料薄膜的鍍鋁。
（2）直接蒸鍍法是被鍍基材直接通過真空鍍膜機，將金屬鋁蒸鍍在基材表面而形成真空鍍鋁膜的一種工藝。直接蒸鍍法對基材的要求較高，尤其是表面要形成光亮的金屬膜時，需要求基材具有較好的表面平滑度。如果紙張的表面較粗糙，則采用直接蒸鍍法時，需要在鍍鋁前進行表面涂布。另，在蒸鍍過程中要求基材的揮發物要少。直接蒸鍍法主要適用于蒸鍍塑料薄膜，也可用于紙張的蒸鍍，彩色鍍鋁膜批發，但紙張的質量要求高，并對紙的定量有一定的限度；也就是說直接蒸鍍法對基材的適用范圍有較大的局限性。真空鍍鋁對被鍍基材的要求：
（1）基材表面清潔光滑、平整、厚度均勻，彩色鍍鋁膜電話，即基材應具有一定的強度和表面平滑度；挺度和摩擦系數適當。
（2） 耐熱性好，基材經得起蒸發源的熱輻射和蒸發物的冷凝潛熱，基材含水量低于0.1%。。
（3）薄膜基材產生的揮發性物質要少；表面潤濕張力大于38dyn/cm。
（4）對鍍鋁層的粘接性良好；對于非極性材料，真空鍍鋁前應進行表面處理、以提高與鍍層的粘接性。
鍍鋁膜是近幾年出現的新材料，鍍鋁膜既具有塑料薄膜的特性，又具有金屬特性，從一定程度上替代了鋁箔。
鍍鋁膜復合后產生明顯的白色或灰點，這些斑點在滿版油墨印刷復合過程中為常見：
鍍鋁膜本身質量較差，鍍層容易剝離，油墨及膠粘劑在其表面產生的粘接力高低不一，在斑點產生處油墨層與鍍層粘接力較低，層間緊密度差；沒有斑點處鍍層已明顯轉移，層間緊密度好。通過鍍鋁層反光強弱，形成白色或灰點，彩色鍍鋁膜，其斑點深淺程度與油墨遮蓋力有很大關系。遮蓋力好，斑點淺；反之，斑點嚴重。采用遮蓋力較好的油墨是清除斑點根本的方法。
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第9年
