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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
主營：貴金屬材料
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綁定的適用范圍
?技術(shù)上來說表面平整可進(jìn)行金屬化處理的靶材都可以用我司銦焊綁定技術(shù)綁定銅背靶來提高濺射過程的散熱性、提高靶材利用率。
建議綁定的靶材：
?ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及燒結(jié)靶材；
?錫、銦等軟金屬靶；
?靶材太薄、靶材太貴的情況等。
但下列情況綁定有弊端：
?1.熔點(diǎn)低的靶材，像銦、硒等，金屬化的時(shí)候可能會(huì)變軟變形；
?2.貴金屬靶材，一是實(shí)際重量易出現(xiàn)分歧，二是金屬化以及解綁的時(shí)候都會(huì)有浪費(fèi)料，建議墊一片銅片。
半導(dǎo)電膠輥通常用在復(fù)印機(jī)、電子傳真裝置等辦公設(shè)備中。半導(dǎo)電膠輥屬于半導(dǎo)電元件，2N金靶材價(jià)格，且電阻值受環(huán)境影響較大，對(duì)產(chǎn)品的導(dǎo)電性要求極其嚴(yán)格，2N金靶材，因?yàn)榇蛴〉娜^程是碳粉通過電場(chǎng)的壓力來實(shí)施，所以輕微的電性誤差將導(dǎo)致在打印過程中文字和圖片深淺不一的現(xiàn)象。因此需精密的量測(cè)，2N金靶材廠，故要求有一套高精密的量測(cè)系統(tǒng)來支持，方能達(dá)到產(chǎn)品的設(shè)計(jì)要求。
各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，2N金靶材報(bào)價(jià)，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造；在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲(chǔ)器的存儲(chǔ)容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對(duì)所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。
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第9年
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