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日照微弧技術有限公司
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在硅酸鹽體系中分別添加三氧化鉬和鉬酸鈉，對AZ91D鎂合金進行微弧氧化處理，對比研究鉬質量濃度相同的三氧化鉬和鉬酸鈉對微弧氧化膜耐蝕性的影響。通過TT260涂層測厚儀、SEM和XRD分別檢測膜層厚度、表面形貌和物相組成。采用點滴和電化學實驗研究膜層的耐蝕性。
結果表明：電解液中加入鉬質量濃度相同的MoO3和Na2MoO4后，微弧氧化電源設備，膜層點滴耐蝕性均有所降低，小型微弧氧化電源，但電化學耐蝕性均增加，且二者添加量均為少時膜層耐蝕性更佳。
微弧氧化材料表面陶瓷化機理
微弧氧化是一種在高電壓、大電流下對金屬材料進行表面處理的技術。由于采用了較高的電壓(大于250 V)，在微弧氧化處理過程中，可在樣品材料表面觀察到光斑(弧光)現象。光斑十分細小，微弧氧化電源，密度很大，且無固定位置。這種細小的光斑意味著在樣品材料表面形成了大量的等離子體微區，微弧氧化電源使用方法，在微區內瞬間溫度可達2500℃以上，壓力可達數百個大氣壓，為上面提到的一系列化學、物理反應的進行創造了條件。利用這一環境可在材料表面生成具有一定厚度、致密的陶瓷氧化層，可用來改善材料自身的防腐、耐磨和電絕緣等特性。
微弧氧化技術廣泛用途
微弧氧化技術廣泛運用于航空航天、航空公司、機械設備、交通出行、石油化工設備、紡織品、包裝印刷、電子器件、輕工業、診療等領域。微弧氧化技術的應用推廣已獲得基本成效。該成效在航空航天、車輛、機械設備、電子器件、紡織品、輕工業、等領域中激發了一股應用微弧氧化技術的風潮。微弧氧化技術是近幾年國內盛行的高新科技技術，是原材料表面改性材料的一種關鍵方式。
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第7年
