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負占空比對鈦合金微弧氧化膜層的影響
恒壓模式下，鋁合金微弧氧化現象，利用自制的多功能微弧氧化設備在Na2SiO3—Na3PO4—NaOH電解液體系中制備了鈦合金陶瓷膜，采用掃描電鏡、X射線衍射儀等考察了負占空比(dc)對鈦合金微弧氧化膜厚度、表面形貌、硬度、相組成及耐蝕性的影響。結果表明：隨著dc的增加，膜層厚度減小；膜層表面呈典型的多孔陶瓷結構，隨dc的增大，膜層表面微孔數量減少，鋁合金微弧氧化涂層，孔徑增大且有裂紋產生；膜層相組成主要為Ti、金紅石及銳鈦礦TiO2，在dc=45%時基體衍射峰消失。相對基體而言，膜層的硬度及耐蝕性都具有較大的提高；隨dc增加，膜層硬度增強，鋁合金微弧氧化，耐蝕性有一定程度的減弱。
什么是微弧氧化技術？
微弧氧化技術是近幾年國內外發展較快的一項高新技術。
該技術的基本原理及特點：微弧氧化或微等離子體表面陶瓷化技術，是指在普通陽極氧化的基礎上，鋁合金微弧氧化設備，利用弧光放電增強并會在陽極上發生的反應。
使工件表面的金屬與電解質溶液相互作用，在工件表面形成微弧放電，在高溫、電場等因素的作用下，金屬表面形成陶瓷膜。（內容僅供參考）
相比MoO3，加入鉬質量濃度相同的Na2MoO4所得膜層耐蝕性更佳，在添加0.42g/L Na2MoO4時制得膜層其腐蝕電流密度比無添加劑時的低約7倍，比基體的低約1個數量級。故加入Na2MoO4的價比更高。
此外，這2種添加劑的加入，均可在AZ91D鎂合金表面制得淺棕色的膜層，起顯色作用的物質是MoO2。
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第7年
