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日照微弧技術有限公司
主營：微弧氧化,微弧氧化技術,微弧氧化電源,微弧氧化廠家
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相比MoO3，加入鉬質量濃度相同的Na2MoO4所得膜層耐蝕性更佳，輕金屬微弧氧化廠家，在添加0.42g/L Na2MoO4時制得膜層其腐蝕電流密度比無添加劑時的低約7倍，比基體的低約1個數量級。故加入Na2MoO4的價比更高。
此外，輕金屬微弧氧化公司，這2種添加劑的加入，輕金屬微弧氧化，均可在AZ91D鎂合金表面制得淺棕色的膜層，輕金屬微弧氧化設備，起顯色作用的物質是MoO2。
微弧氧化材料表面陶瓷化機理
微弧氧化是一種在高電壓、大電流下對金屬材料進行表面處理的技術。由于采用了較高的電壓(大于250 V)，在微弧氧化處理過程中，可在樣品材料表面觀察到光斑(弧光)現象。光斑十分細小，密度很大，且無固定位置。這種細小的光斑意味著在樣品材料表面形成了大量的等離子體微區，在微區內瞬間溫度可達2500℃以上，壓力可達數百個大氣壓，為上面提到的一系列化學、物理反應的進行創造了條件。利用這一環境可在材料表面生成具有一定厚度、致密的陶瓷氧化層，可用來改善材料自身的防腐、耐磨和電絕緣等特性。
什么是微弧氧化？微弧氧化膜層生長過程是怎樣的？
微弧氧化技術(MAO)是在陽極氧化基礎上發展起來的一項新技術，是在含有特定離子的電解液中，通過弧光放電處理和電化學氧化的共同作用，在鋁、鎂、鈦等有色金屬及其合金材料表面原位產生一層與基體結合良好的陶瓷層的表面處理技術，膜層具有耐蝕性能高、硬度高、耐磨性能好、高阻抗、絕熱性能好等特點。
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第7年
