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沈陽(yáng)東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
主營(yíng)：貴金屬材料
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金屬靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料。有金屬類、合金類、氧化物類等等。
簡(jiǎn)單說(shuō)的話，例如：蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜......鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。
應(yīng)用于顯示屏的阻擋層或調(diào)色層，筆記本電腦的裝飾層、電池的封裝等.
區(qū)域提純后的金屬鍺，其錠底表面上的電阻率為30～50歐姆 厘米時(shí)，純度相當(dāng)于8～9，可以滿足電子器件的要求。但對(duì)于雜質(zhì)濃度小于[KG2]10原子/厘米[KG2]的探測(cè)器級(jí)超純鍺，則尚須經(jīng)過(guò)特殊處理。
由于鍺中有少數(shù)雜質(zhì)如磷、鋁、硅、硼的分配系數(shù)接近于1或大于1，要加強(qiáng)化學(xué)提純方法除去這些雜質(zhì)，然后再進(jìn)行區(qū)熔提純。電子級(jí)純的區(qū)熔鍺錠用霍爾效應(yīng)測(cè)量雜質(zhì)（載流子）濃度，貴金屬靶材廠家，一般可達(dá)10～10原子/厘米。經(jīng)切頭去尾，再利用多次拉晶和切割尾，貴金屬靶材技術(shù)，一直達(dá)到所要求的純度（10原子/厘米），這樣純度的鍺（相當(dāng)于13）所作的探測(cè)器，貴金屬靶材價(jià)格，其分辨率已接近于理論數(shù)值。
超純金屬的檢測(cè)方法極為困難。痕量元素的化學(xué)分析系指一克樣品中含有微克級(jí)（10克/克）、毫微克級(jí)（10克/克）、微微克級(jí)（10克/克）雜質(zhì)的確定。常用的手段有中子和帶電粒子活化分析，貴金屬靶材，原子吸收光譜分析，熒光分光光度分析，質(zhì)譜分析，化學(xué)光譜分析及氣體分析等。在單晶體高純材料中，晶體缺陷對(duì)材料性能起顯著影響，稱為物理雜質(zhì)，主要依靠在晶體生長(zhǎng)過(guò)程中控制單晶平穩(wěn)均勻的生長(zhǎng)來(lái)減少晶體缺陷。
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第9年
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