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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
主營(yíng)：貴金屬材料
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中國(guó)的貴金屬工業(yè)由于較長(zhǎng)時(shí)期處于國(guó)家計(jì)劃經(jīng)濟(jì)體制，因此發(fā)展比較緩慢，特別是鉑族金屬起步更是比較晚，工藝技術(shù)比較落后，國(guó)內(nèi)資源更是匱乏，直到改革開放以后，以上海黃金的開業(yè)為標(biāo)志，在這三十年里，才得到了迅速的發(fā)展，出現(xiàn)了現(xiàn)貨、紙黃金、紙白銀等等的交易模式，金圓柱靶，為投資者開打了通往財(cái)富的大門，更多的開辟了就業(yè)渠道，同時(shí)鉑族金屬的生產(chǎn)加工企業(yè)和流通領(lǐng)域的企業(yè)也似雨后春筍，蓬勃發(fā)展，使中國(guó)成為很大的的鉑族金屬進(jìn)口和消費(fèi)國(guó)。
濺射靶材的要求較傳統(tǒng)材料行業(yè)高，一般要求如，尺寸、平整度、純度、各項(xiàng)雜質(zhì)含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸與缺陷控制；較高要求或特殊要求包含：表面粗糙度、電阻值、晶粒尺寸均勻性、成份與組織均勻性、異物（氧化物）含量與尺寸、導(dǎo)磁率、超高密度與超細(xì)晶粒等等。磁控濺射鍍膜是一種新型的物相鍍膜方式，就是用電子系統(tǒng)把電子發(fā)射并聚焦在被鍍的材料上，使其被濺射出來的原子遵循動(dòng)量轉(zhuǎn)換原理以較高的動(dòng)能脫離材料飛向基片淀積成膜。這種被鍍的材料就叫濺射靶材。 濺射靶材有金屬，合金，金圓柱靶報(bào)價(jià)，陶瓷化合物等。
而未米的0.18um}藝甚至0.13m工藝，所需要的靶材純度將要求達(dá)到5甚至6N以上。銅與鋁相比較，哪家有金圓柱靶，銅具有更高的抗電遷移能力及更低的電阻率，能夠滿足！導(dǎo)體工藝在0.25um以下的亞微米布線的需要但卻帶米了其他的問題：銅與有機(jī)介質(zhì)材料的附著強(qiáng)度低．并且容易發(fā)生反應(yīng)，導(dǎo)致在使用過程中芯片的銅互連線被腐蝕而斷路。
為了解決以上這些問題，需要在銅與介質(zhì)層之間設(shè)置阻擋層。阻擋層材料一般采用高熔點(diǎn)、高電阻率的金屬及其化合物，因此要求阻擋層厚度小于50nm，與銅及介質(zhì)材料的附著性能良好。銅互連和鋁互連的阻擋層材料是不同的．需要研制新的靶材材料。銅互連的阻擋層用靶材包括Ta、W、TaSi、WSi等．但是Ta、W都是難熔金屬．制作相對(duì)困難，如今正在研究鉬、鉻等的臺(tái)金作為替代材料。
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第9年
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