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蘇州工業園區諾泰盈電子有限公司
主營：專業從事EMI材料/絕緣材料/緩沖泡棉材料/散熱型材料
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蘇州工業園區諾泰盈電子有限公司是一家從事EMI材料/絕緣材料/緩沖泡棉材料/散熱型材料及各種雙面膠材料深加工的企業。
顯影液常見問題
a、顯影不完全（Incomplete Development）。表面還殘留有光刻膠。由顯影液不足造成。
b、顯影不夠（Under Development）。顯影的側壁不垂直。由顯影時間不足造成。
c、過度顯影（Over Development）。靠近表面的光刻膠被顯影液過度溶解，形成臺階。由顯影時間太長造成。
蘇州工業園區諾泰盈電子有限公司是一家從事EMI材料/絕緣材料/緩沖泡棉材料/散熱型材料及各種雙面膠材料深加工的企業。
主要產品有：導光膜/銅鋁箔/導電雙面/導電布/鈹銅彈片/吸波材/導電泡棉/PET/PP/PE/EVA/CR/PORON/RUBBER/硅膠片及各種相面膠帶材料的模切加工。
顯影液組成成分的作用與顯影液的配方
加速物質在中性水溶液中的顯影物質具有很弱的顯影性質。在顯影液中，顯影液配制，顯影物質活性形式的濃度取決于氫離子的濃度，即決定于溶液的堿度。顯影液中堿濃度越高，那么它的作用越快，活性越強。為了使溶液達到需用的堿度，顯影液原理，保持其活性，宿遷顯影液，就要往顯影液中加入加速物質(堿)：蘇打(碳酸鈉)，碳酸鉀，硼砂(四硼酸鈉)，三代磷酸鈉及苛性堿等。
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顯影液組成成分的作用與顯影液的配方
目前，也使用活性較強的阻制劑，作為防灰霧物質。并唑與銀離子作用形成低溶鹽，積存在鹵化銀晶體的表面并阻止其還原。并唑作用的特點是，它能夠使受到大曝光量的影像部位上的強顯影中心保持不變的情況下，抑制弱顯影中心(小曝光量部位及灰霧)的還原。
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第7年
