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沈陽東創(chuàng)貴金屬材料有限公司
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使用電子導(dǎo)電性橡膠時(shí)，銀電極頭廠，由于導(dǎo)電性填充劑添加量的變化都會(huì)引發(fā)電阻劇烈變化，所以存在電阻值很難控制的問題。而且，由于橡膠中的導(dǎo)電性填充劑難以均勻分散，所以輥筒的圓周方向和寬度方向上的電阻值不均勻。
對(duì)橡膠組合物進(jìn)行硫化處理的方法包括使用加壓裝置和硫化處理槽的間歇式或連續(xù)式硫化法。用間歇式硫化法進(jìn)行硫化處理制造輥筒時(shí)，由于端部和中央部分會(huì)產(chǎn)生壓力和熱傳遞差，所以電阻值不均勻。
而未米的0.18um}藝甚至0.13m工藝，所需要的靶材純度將要求達(dá)到5甚至6N以上。銅與鋁相比較，銅具有更高的抗電遷移能力及更低的電阻率，能夠滿足！導(dǎo)體工藝在0.25um以下的亞微米布線的需要但卻帶米了其他的問題：銅與有機(jī)介質(zhì)材料的附著強(qiáng)度低．并且容易發(fā)生反應(yīng)，導(dǎo)致在使用過程中芯片的銅互連線被腐蝕而斷路。
為了解決以上這些問題，需要在銅與介質(zhì)層之間設(shè)置阻擋層。阻擋層材料一般采用高熔點(diǎn)、高電阻率的金屬及其化合物，因此要求阻擋層厚度小于50nm，與銅及介質(zhì)材料的附著性能良好。銅互連和鋁互連的阻擋層材料是不同的．需要研制新的靶材材料。銅互連的阻擋層用靶材包括Ta、W、TaSi、WSi等．但是Ta、W都是難熔金屬．制作相對(duì)困難，如今正在研究鉬、鉻等的臺(tái)金作為替代材料。
陶瓷靶材
ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶，、二氧化鉿靶，二硼化鈦靶，二硼化鋯靶，銀電極頭哪家好，三氧化鎢靶，三氧化二鋁靶五氧化二鉭，五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶，氮化硅靶，淮北銀電極頭，氮化硼靶，氮化鈦靶，碳化硅靶，鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
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第9年
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