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日照微弧技術有限公司
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ZL205A微弧氧化膜層耐蝕性能研究
利用硅酸鹽復合電解液體系，微弧氧化電源，在ZL205A上采用微弧氧化法制備膜層。
所用的工藝參數為：恒流控制，電流密度3 A/dm^2，微弧氧化電源指標，頻率500 Hz，終止電壓450 V。利用掃描電鏡對該膜層的形貌及結構進行分析；對膜層的化學成分進行分析；采用極化曲線評價膜層的耐蝕性。
結果表明：所制備的微弧氧化膜層能提高ZL205A的耐蝕性。
微弧氧化技術特點
1. 提高材料表面硬度
微弧氧化膜層為表面多孔（孔徑為幾微米）、內部致密的陶瓷層。膜層硬度高（維氏硬度可由幾百至三千左右） 膜層與基體為冶金結合、厚度在幾微米至幾百微米之間。
2. 高耐磨性
用WC做摩擦副，摩擦率為4.9*10 -7mm3/Nm，小型微弧氧化電源價格，摩擦系數0.48 提高50倍左右。
3. 高耐蝕性
耐中性鹽霧腐蝕（按）≥400h ，高頻微弧氧化電源，可做至≥800h膜層無明顯腐蝕。
微弧氧化工藝流程
1、預處理
預處理的原因是由于鋁、鐵等合金長時間放置在空氣中，表面易發生氧化，生成一層幾個微米的鈍化膜，同時，其表面又極易吸附周圍環境中的雜質，形成表面吸附層。為保證微弧氧化后制得陶瓷膜的綜合力學性能，在微弧氧化處理前要對試樣表面進行預處理。
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第7年
