ICP 光譜儀的應用范圍非常廣泛，以下是一些常見的應用領域：

金屬材料分析：用于檢測金屬材料中的元素成分，如鋼鐵、鋁合金、銅合金等。

地質礦產分析：可以分析礦石、土壤等地質樣品中的元素含量，原子發射icp光譜儀，幫助礦產勘查和開采。

環境監測：用于檢測水、土壤、空氣中的重金屬元素等污染物，監測環境質量。

化工領域：分析化工產品中的元素成分，如化肥、涂料等。

食品安全：檢測食品中的微量元素、有害元素等，確保食品安全。

材料研究：在新材料的研發過程中，ICP 光譜儀可以提供元素成分信息，幫助研究人員了解材料的性能和特性。

醫學領域：用于分析人體組織、血液等樣品中的元素含量，輔助疾病診斷和診治。

這只是 ICP 光譜儀的一些主要應用領域，實際上它還可以在其他許多領域發揮重要作用。不同的應用領域可能對儀器的性能和功能有不同的要求，所以在選擇 ICP 光譜儀時，需要根據具體的應用需求來進行評估和選擇。

鋼研納克 Plasma2000 全譜ICP光譜儀

Plasma2000電感耦合等離子體發射光譜儀是鋼研納克在首批“國家重大科學儀器設備開發專項”支持下研發的二維全譜高分辨ICP光譜儀，原子發射icp光譜儀廠家，是國產全譜ICP光譜儀革命性產品，曾斬獲中國儀器儀表行業協會“自主金獎”等一系列榮譽，在業界獲得廣泛的好評。美觀精致的高顏值工業設計，優異穩定的測試性能源于納克近四十年ICP行業經驗。Plasma2000擁有

1、中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，徑向觀測，具有穩健的檢測能力。

2、 有效穩定的自激式固態射頻發生器，原子發射icp光譜儀廠家，體積小巧，匹配速度快，確保儀器的精度較高運行及優異的長期穩定性。

3、 高速面陣CCD采集技術，單次曝光獲取全部譜線信息，真正實現“全譜直讀”。

4、 功能強大的軟件系統，簡化分析方法的開發過程，為用戶量身打造簡潔、舒適的操作體驗。

可廣泛應用于冶金、地質、材料、環境、食品、石油、化工、生物、水質等各領域的元素分析。

鋼研納克雙向觀測Plasma 3000 ICP光譜儀分光系統

儀器采用徑向觀測與軸向觀測設計，適應亞ppm到高含量的元素測量。 中階梯光柵與棱鏡交叉色散結構，使用CaF2棱鏡，提高光路傳輸效率。

優化的光學設計，采用非球面光學元件，改善成像質量，提高光譜采集效率。 光室氣體氛圍保持技術，縮短光室充氣時間，提高紫外光譜靈敏度及穩定性，開機即可測量。 包圍式立體控溫系統，保障光學系統長期穩定無漂移。

光源

固態射頻發生器，穩定，體積小巧，匹配速度快

冷錐消除尾焰技術，地降低自吸效應和電離干擾，從而獲得更寬的動態線性范圍和更 低的背景，保證準確的測量結果。 具有綠色節能待機模式，待機時降低輸出功率，減小氣體流量，僅維持等離子體運行，節約使用成本。

簡潔的炬管安裝定位設計，快速定位，的位置重現。 實時監控儀器運行參數，CAN工業現場總線，保障通訊可靠。

進樣系統

簡潔的炬管安裝設計，自動定位炬管位置，的位置重現。

ICP光譜儀使用質量流量控制器控制冷卻氣、輔助氣和載氣的流量，保障測試性能長期穩定。 多通道12滾輪蠕動泵，提升樣品導入穩定性。

檢測器

大面積背照式CCD檢測器，全譜段響應，高紫外量化效率，抗飽和溢出，具有極寬的動態范

圍和極快的信號處理速度。 一次曝光，完成全譜光譜信號的采集讀取，從而獲得更為快速、準確的分析結果。

ICP光譜儀具有同類產品中靶面尺寸，像素，原子發射icp光譜儀價格，單像素面積24μm X 24μm，三級半導體制冷，制冷溫 度 低，具有更低的噪聲和更好的穩定性。

軟件系統

人性化的界面設計，流暢易懂，簡便易用，針對分析應用優化的軟件系統，無須復雜的方法開發， 即可快速開展分析操作。

豐富的譜線庫，智能提示潛在干擾元素，幫助用戶合理選擇分析譜線。 輕松的觀測方式設置，直觀的測試結果顯示。

安全防護

電磁屏蔽，減少電磁輻射 連鎖門保護，避免用戶誤操作可能帶來的風險 防紫外觀測窗