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是微電子工業中用量大的等離子蝕刻氣體，高純氣高純氧的混合氣，可廣泛應用于硅、二氧化硅、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻，在電子器件表面清洗、太陽能電池生產、激光技術、低溫制冷、泄漏檢驗、印刷電路生產中的去污劑等方面也大量使用。溫室氣體，四氟化碳廠家，其造成溫室效應的作用是二氧化碳的數千倍。氟代烴的低層大氣中比較穩定，而在上層大氣中可被能量更大的紫外線分解。在范圍內，高純度四氟化碳應用于歐洲、亞太地區、北美、中東、非洲和南美洲等地區，受電子產業發展程度不同影響，對于高純度四氟化碳的需求也不同，亞洲地區由于電子產業發展落后，近幾年電子電器行業處于快速發展狀態，因此使得該地區的高純度四氟化碳消費量持續攀升。
四氟化碳在不同的大氣壓下呈現的狀態是不同的，就像氧氣在101kPa時會呈現出液態。四氟化碳是無色、無臭、不燃的可壓縮性氣體，四氟化碳，發揮性較高.四氟化碳一般認為是惰性低毒物質，在高濃度下是窒息劑，其毒性不及四1氯化碳。產品經除塵，堿洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等雜質、再經脫水可獲得含量約為85%的粗品。將粗品引入低溫精餾釜中進行間歇粗餾，通過控制精餾溫度，四氟化碳批發，除去O2、N2、H2，得到高純CF4。
四氟化碳亦稱全氟化碳、四氟甲1烷、全氟化碳，為非腐蝕性氣體，所有通用材料如鋼、不銹鋼、銅、青銅，鋁等金屬材料都可以使用。產品經除塵，堿洗除去HF、CoF2、SiF4、CO2等雜質、再經脫水可獲得含量約為85%的粗品。將粗品引入低溫精餾釜中進行間歇粗餾，通過控制精餾溫度，除去O2、N2、H2，得到高純CF4。由碳與氟反應，或一氧1化碳與氟反應，或碳化硅與氟反應，或氟石與石油焦在電爐里反應，或二氟二氯甲1烷與反應，或四氯1化碳與氟化銀反應，或四氯1化碳與氟1化氫反應，都能生成四氟1化碳。
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第8年
