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濺射靶材ITO靶材的生產(chǎn)工藝 ITO靶材的生產(chǎn)工藝可以分為3種：熱等靜壓法(HIP)、濺射靶材熱壓法(HP)和氣氛燒結(jié)法。各種生產(chǎn)工藝及其特點(diǎn)簡介如下：
熱等靜壓法：ITO靶材的熱等靜壓制作過程是將粉末或預(yù)先成形的胚體，在800℃～1400℃及1000kgf/cm 2～2000kgf/cm 2的壓力下等方加壓燒結(jié)。熱等靜壓工藝制造產(chǎn)品密度高、物理機(jī)械性能好，但設(shè)備投入高，生產(chǎn)成本高，哪里有包銀導(dǎo)電輥，產(chǎn)品的缺氧率高。
各種類型的濺射薄膜材料在半導(dǎo)體集成電路(VLSI)、光碟、平面顯示器以及工件的表面涂層等方面都得到了廣泛的應(yīng)用。20世紀(jì)90年代以來，濺射靶材及濺射技術(shù)的同步發(fā)展，包銀導(dǎo)電輥哪家好，極大地滿足了各種新型電子元器件發(fā)展的需求。例如，在半導(dǎo)體集成電路制造過程中，包銀導(dǎo)電輥，以電阻率較低的銅導(dǎo)體薄膜代替鋁膜布線：在平面顯示器產(chǎn)業(yè)中，各種顯示技術(shù)(如LCD、PDP、OLED及FED等)的同步發(fā)展，有的已經(jīng)用于電腦及計(jì)算機(jī)的顯示器制造；在信息存儲(chǔ)產(chǎn)業(yè)中，磁性存儲(chǔ)器的存儲(chǔ)容量不斷增加，新的磁光記錄材料不斷推陳出新這些都對所需濺射靶材的質(zhì)量提出了越來越高的要求，需求數(shù)量也逐年增加。
鎢-鈦靶材作為光伏電池鍍膜材料是近發(fā)展起來的，哪家有包銀導(dǎo)電輥，它作為第三代太陽能電池的阻擋層是佳選擇。
由于 W-Ti 系列薄膜具有非常優(yōu)良的性能，近幾年來應(yīng)用量急劇增加，2008年W-Ti 靶材世界用量已達(dá)到400t，隨著光伏產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，這種靶材的需求量會(huì)越來越大。具行業(yè)預(yù)測其用量還會(huì)有很大的增加。國際太陽能電池市場以的速度增長，目前世界有30 多公司參與太陽能市場的進(jìn)一步開發(fā)， 并已有的公司產(chǎn)品投入市場。
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第9年
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